本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不 適用本章規定：

一、產製食用酒精之製程。

二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。

三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十 mg/min （揮發性有機物排 放量以甲烷表示）之批次操作製程。

四、排氣流量小於六十 Nm3/hr 之連續操作製程。

五、其他經中央主管機關公告之製程。

石化製程原物料或產品輸送管線不得破損，且排放管道排氣應以密閉集氣 系統收集。但採密閉集氣系統有困難並報經主管機關核可者，不在此限。

前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉集氣系統者，應適用削減率之規 定。

┌───┬─────┬──────┬─────────────┐ │污染源│適用對象 │排放標準 │備註 │ ├───┼─────┼──────┼─────────────┤ │空氣氧│中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達一千│ │化單元│十六年二月│之九十或排放│五百 ppm 者僅適用排放濃度│ │及蒸餾│六日以前設│濃度一百五十│規定。但已達最佳可行控制技│ │操作單│立者 │ppm 以下 │術之效率者，不在此限。 │ │元 │ │ │ │ │ ├─────┼──────┼─────────────┤ │ │中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達二千│ │ │十六年二月│之九十五或排│ppm 者僅適用排放濃度規定。│ │ │七日以後設│放濃度一百 p│但已達最佳可行控制技術之效│ │ │立者 │pm 以下 │率者，不在此限。 │ ├───┼─────┼──────┼─────────────┤ │其他石│中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達二千│ │化製程│十六年二月│之九十或排放│ppm 者僅適用排放濃度規定。│ │單元 │六日以前設│濃度二百 ppm│但已達最佳可行控制技術之效│ │ │立者 │以下 │率者，不在此限。 │ │ ├─────┼──────┼─────────────┤ │ │中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達三千│ │ │十六年二月│之九十五或排│ppm 者僅適用排放濃度規定。│ │ │七日以後設│放濃度一百五│但已以達最佳可行控制技術之│ │ │立者 │十ppm 以下 │效率者，不在此限。 │ └───┴─────┴──────┴─────────────┘ 第一項以密閉集氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理者，其鍋爐或加熱爐負荷 應維持削減率達百分之九十五。

石化製程排放管道排氣採非破壞性物料回收處理方式者，其削減率達百分 之八十五或排放濃度三百 ppm 以下。

石化製程排放管道之污染防制設備應符合下列規定：

一、廢氣導入處設置流量計及連續紀錄設施。

二、設置溫度量測器及連續紀錄設施，設置位置如下：

（一）熱焚化爐爐膛內。

（二）觸媒焚化爐觸媒床前後。

（三）冷凝器冷凝液出口端。

三、使用前款以外之污染防制設備者，應設置足以有效監視其正常操作之 連續監測及紀錄設施，並提出書面資料報經主管機關核可。

前項使用焚化設施為污染防制設備者，其溫度量測器所得之連續三小時平 均溫度，不得低於標準操作溫度三十℃以上。

公私場所依第一項設置流量計有困難者，報請地方主管機關核可後，得以 其他監測方式替代。