本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不 適用本章規定：

一、產製食用酒精之製程。

二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。

三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十 mg/min （揮發性有機物排 放量以甲烷表示）之批次操作製程。

四、排氣流量小於六十 Nm3/hr 之連續操作製程。

五、其他經中央主管機關公告之製程。