地下儲槽系統防止污染地下水體設施及監測設備設置管理辦法  監測設備 ( 100 年 01 月 14 日)
第12條
地下儲槽系統以地下水監測方式進行監測者,其方法及設施標準應符合下 列規定:

一、地下水標準監測井應於地下儲槽區及管線區上游設置一口以上、下游 設置二口以上。

二、地下水水位不得低於地表下七公尺。地下儲槽系統與監測井間介質之 水力傳導係數不得小於每秒○.○一公分。

三、監測井篩套管應具有防止土壤或濾料侵入井內之功能。 四、監測井於高、低地下水位應能測得滲漏物質,其地表至濾料頂端並應 予密封。

五、自動或人工監測設備應具有監測滲漏物質之功能。 六、地下水標準監測井應標記並加蓋。 依第八條第一項自行進行之地下水監測,應每月實施一次並記錄之,其監 測項目為浮油厚度,或直轄市、縣(市)主管機關指定之項目。

依第八條第一項委託檢驗測定機構進行之地下水監測,自中華民國一百零 二年一月一日起,應每年實施監測一次並記錄之,其監測項目為苯、甲苯 、乙苯、二甲苯及柴油總碳氫化合物或直轄市、縣(市)主管機關指定之 項目。