地下儲槽系統應設置油槽自動液面計進行總量進出平衡管制，其方式如下
：
一、每日記錄進出量及油槽存油量。
二、進料前、後應量測並記錄儲槽內之存量容積。
三、每月應以油尺，採人工量測方式，記錄儲槽油位與槽底水位一次以上
。
前項油槽自動液面計量測範圍，應至少涵蓋儲槽內底部至頂部之距離。
中華民國九十五年七月六日前之地下儲槽系統未設置油槽自動液面計者，
得採人工量油方式進行第一項之總量進出平衡管制。但更新地下儲槽者，
應依第一項規定設置油槽自動液面計。
地下儲槽系統應依下列方式之一，進行監測並記錄，其監測範圍應包含儲
槽區、管線區、加油泵島區：
一、密閉測試。
二、土壤氣體監測。
三、地下水監測。
四、槽間監測。
五、其他中央主管機關核准之監測方式。
前項第一款至第四款之監測，其監測頻率應依第十條至第十三條之規定，
但直轄市、縣（市）主管機關得視轄內地震影響情況、地質、迷失電流等
特殊因素，經具體科學性數據研判，得增加其監測頻率，並報請中央主管
機關備查。
第一項第二款至第四款之監測，事業應自行進行監測外，第一款至第四款
之監測，自中華民國一百零二年一月一日起，並應委託中央主管機關核發
許可證之檢驗測定機構辦理。
第三項檢驗測定機構及事業自行監測之監測人員，須由經中央主管機關或
委託之機構訓練合格並領有證書之人員為之。
第三項委託檢驗測定機構之監測，應於監測五日前以網路傳輸方式通知直
轄市、縣（市）主管機關。
地下儲槽系統配置之管線符合下列情形之一者，免依前條規定進行監測：
一、配置吸取式管線符合下列情形者：
（一）負壓消失時，管線內之物質能回流至儲槽內。
（二）每段管線僅有一單向閥。
（三）單向閥低於吸取式幫浦。
二、管線為明管者。
地下儲槽系統以密閉測試方式進行監測者，應依下列頻率進行監測並記錄
之：
一、地下儲槽：每五年一次。
二、壓力式管線：每年一次。
三、吸取式管線：每三年一次。
前項地下儲槽之密閉測試應符合一小時壓力變化率低於○‧○一公斤／（
平方公分‧小時）及自動壓力記錄器所繪製之圓盤圖須密合，或應符合滲
漏率低於○‧三七八公升／小時；管線之密閉測試應在一至一‧五倍操作
壓力下進行，並應符合一小時壓力變化率低於○‧一公斤／（平方公分‧
小時）及自動壓力記錄器所繪製之圓盤圖須密合。
依第八條第一項委託檢驗測定機構進行之密閉測試，自中華民國一百零二
年一月一日起，應依下列頻率進行監測並記錄之：
一、地下儲槽：每三年一次。
二、壓力式管線：每年一次。
三、吸取式管線：每年一次。
地下儲槽系統以土壤氣體監測方式進行監測者，其方法及設施標準應符合
下列規定：
一、監測設備應具有不因降雨、地下水、土壤濕度或其他因素影響，於儲
存物質滲漏發生後測得滲漏物揮發之功能。
二、開挖區回填孔隙介質，應具滲漏物蒸氣擴散之功能。
三、依開挖區範圍、回填孔隙介質、儲存物質及監測設備之功能，決定土
壤氣體監測井之數量及位置。
四、土壤氣體監測井應符合透氣度小於錶壓五百 mmHg 。
五、土壤氣體監測井應標記並加蓋，其監測範圍以監測井為中心，半徑不
得大於五公尺。
依第八條第一項自行進行之土壤氣體監測，應每月實施一次並記錄之，其
監測項目為爆炸下限值百分比（%LEL）或揮發性有機氣體濃度。
依第八條第一項委託檢驗測定機構進行之土壤氣體監測，自中華民國一百
零二年一月一日起，應每四個月實施監測一次並記錄之，其監測項目至少
包括以光離子偵測器（Photo Ionization Detector, PID）及火焰離子偵
測器（Flame Ionization Detector, FID）檢測之油氣濃度值。
第二項爆炸下限值百分比（%LEL）大於百分之二十五或第三項光離子偵測
器、火焰離子偵測器之檢測值大於五百 ppmV 者，事業得進行污染調查，
以研判是否有污染洩漏情事。
地下水最高水位或土壤氣體監測井內水位距地表二公尺以內，且土壤氣體
監測井其透氣度大於錶壓一百五十 mmHg 者，不得採用土壤氣體監測法。
地下儲槽系統以地下水監測方式進行監測者，其方法及設施標準應符合下
列規定：
一、地下水標準監測井應於地下儲槽區及管線區上游設置一口以上、下游
設置二口以上。
二、地下水水位不得低於地表下七公尺。地下儲槽系統與監測井間介質之
水力傳導係數不得小於每秒○．○一公分。
三、監測井篩套管應具有防止土壤或濾料侵入井內之功能。
四、監測井於高、低地下水位應能測得滲漏物質，其地表至濾料頂端並應
予密封。
五、自動或人工監測設備應具有監測滲漏物質之功能。
六、地下水標準監測井應標記並加蓋。
依第八條第一項自行進行之地下水監測，應每月實施一次並記錄之，其監
測項目為浮油厚度，或直轄市、縣（市）主管機關指定之項目。
依第八條第一項委託檢驗測定機構進行之地下水監測，自中華民國一百零
二年一月一日起，應每年實施監測一次並記錄之，其監測項目為苯、甲苯
、乙苯、二甲苯及柴油總碳氫化合物或直轄市、縣（市）主管機關指定之
項目。
地下儲槽系統以槽間監測方式進行監測者，其方法及設施標準應符合下列
規定：
一、具有二次阻隔層保護之地下儲槽系統，應符合下列規定：
（一）地下儲槽系統外層阻隔物，應使用滲透係數小於 10-6 公分／秒之
材質建造。
（二）外層阻隔物應高於地下水位，且須與儲槽內之儲存物質相容。
（三）具有陰極防蝕系統之地下儲槽系統，其外層阻隔物設計不得妨礙陰
極防蝕系統之正常操作。
（四）槽間監測井應標記並加蓋。
二、具有雙層槽（管）之地下儲槽系統，其監測設備應具有測得雙層槽（
管）之內層槽（管）體內物質滲漏之功能。
依第八條第一項自行進行之槽間監測，應每月實施一次並記錄之，其監測
項目為滲漏油品。
依第八條第一項委託檢驗測定機構進行之槽間監測，自中華民國一百零二
年一月一日起，應每四個月實施監測一次並記錄之，其監測項目為滲漏油
品。
申請第八條第一項第五款之監測方式者，應檢附下列文件報經中央主管機
關核准後，始得為之。
一、公司登記證明文件或商業登記證明文件影本，及負責人身分證明文件
影本。
二、經認證機構認證之監測方式測試成果報告。
三、品保品管規劃書。
四、引進國外認證之監測方法，須檢具國外認證機構之原文認可文件及含
中譯本，並應經駐外機構認證之證明資料。
地下儲槽系統以前項核准之監測方式進行監測者，其實施頻率、記錄、方
法及設施標準應依核准內容為之。