前條製造、使用、貯存毒性化學物質光氣，應另設置安全阻絕防護系統（ 二次阻絕系統）及二道以上反應除毒或吸收設施。

前條製造、使用、貯存毒性化學物質氯，任一場所任一時刻之運作總量達 一百公斤以上者，應另備有水霧噴灑設施；任一場所任一時刻之運作總量 達二公噸以上者，應另設置安全阻絕防護系統（二次阻絕系統）。